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粉料熱處理裝置真空管式爐集控制系統與爐膛于一體。真空腔室采用石英管材質，其貫穿整個爐體，爐管兩端選用不銹鋼法蘭密封，可在真空或氣氛環境下工作。加熱元件與爐管平行，均勻的分布在爐管外，有效地保證了溫場的...

高溫氣氛箱式馬弗爐集控制系統與爐膛于一體，主要用于材料在氣氛環境下的熱處理。設備以電阻絲為加熱元件，采用雙層殼體結構和30段程序控溫，K型熱電偶，爐膛采用高純氧化鋁纖維材料，最高溫度能達到1200℃，...

真空氣氛立式爐爐體表面溫度≤60℃，爐膛采用高純度氧化鋁微晶纖維高溫真空吸附成型。適合于對樣品在真空或氣氛保護環境下吊燒和淬火。專為高等院校﹑科研院所的實驗室及工礦企業在可控多種氣氛及真空狀態下對金屬...

公斤級回轉窯高溫回轉爐適用于粉末材料回轉燒結，物料均勻旋轉，受熱均勻性好。石英爐管放置于爐體中間，爐管另一端采用卡箍連接旋轉密封組件，方便物料出入及管內氣壓監測。爐管旋轉過程中粉料能均勻攪拌不堆積，出...

高溫真空氣氛箱式爐主要用途：陶瓷、冶金、電子、玻璃、化工、機械、耐火材料、特種材料、建材、高校、科研院所、工礦企業做粉末焙燒、陶瓷燒結、高溫實驗、材料處理、質高校、科研院所、工礦企業做真空燒結、真空脫...

開啟式三溫區管式爐采用硅碳棒為加熱元件，額定溫度1300℃，最高溫度可達1400℃。采用宇電控溫儀表和S型熱電偶，可編程30段程序控溫，控溫精度±1℃。設備中包含一套316L不銹鋼快開法蘭，...

光催化爐式系統高溫爐主要應用于熱催化二氧化碳還原制工業原料或燃料，及光催化、光熱催化二氧化碳還原等方向研究，預期成果：探索太陽能向燃料轉化新途徑，提升太陽能到燃料的儲存效率，以及光催化和熱催化的一個耦...

高溫蒸餾儀以其合理的設計和簡便的操作，一臺儀器為實驗室工作提供了各種方法。特別是對小量和中等量的樣品快速地進行真空干燥，此設備非常適合這種用途。根據配置的不同，也可對物質進行蒸餾、分餾、升華和冷凍干燥...

生物質熱解裝置高溫爐應用生物質材料在高溫環境下的熱解實驗，物料懸掛在反應管內部，可以實現快速熱解和原位熱解功能。單次熱解量10-30mL左右，底部配有液相產物收集裝置。

熱重分析裝置高溫爐用于高溫氣氛下的物料失重、增重的情況研究。產品主要由分析天平，加熱爐，控溫及稱重系統等幾個部分構成，熱重法所測定的性質包括腐蝕、高溫分解、吸附/脫附、溶劑的損耗、氧化/還原反應、水合...